Proszek nano tlenku glinu

Proszek nano tlenku glinu produkowany przez naszą firmę ma temperaturę topnienia 2050° i temperaturę wrzenia 2980°. Jest szeroko stosowany w powłokach odpornych na zużycie i powłokach plazmowych, które mogą zwiększyć odporność powłok na zużycie, uczynić je trwalszymi, ułatwić przepływ i poprawić szybkość powlekania proszkowego. W powłokach stali w kręgach nasz proszek nano tlenku glinu może również służyć jako środek ochronny przed ciepłem i promieniowaniem, zapewniając kompleksową ochronę stali i wydłużając jej żywotność; Można go również stosować do mielenia bioceramiki i ceramiki z tlenku glinu, wysokowydajnych katalizatorów, materiałów optycznych, precyzyjnych materiałów polerskich i monokrystalicznych płytek krzemowych. Nanotlenek glinu, dzięki doskonałym właściwościom ochronnym i wiążącym, zapewnia stabilność i niezawodność produktów w dziedzinie świetlówek i żarówek; Ponadto nanotlenek glinu jest stosowany jako materiał powłokowy w wysokiej jakości papierze do drukarek atramentowych, który może nadać papierowi wysoki połysk i doskonałą jakość druku, dzięki czemu drukowany tekst i obrazy są wyraźniejsze. Nanotlenek glinu może również poprawić płynność proszku, zwiększyć ładunek dodatni proszku typu ciernego, a tym samym poprawić wydajność powlekania powłok proszkowych metodą tarcia elektrostatycznego, wprowadzając nowy przełom w nowoczesnej technologii powlekania.

Nasza firma produkuje proszek nano tlenku glinu o wysokiej temperaturze topnienia, wysokiej stabilności chemicznej i właściwościach dielektrycznych, wysokiej twardości, dobrej odporności na zużycie i niskim koszcie. Natryskiwanie proszku nano tlenku glinu na powierzchnię metali, ceramiki, tworzyw sztucznych i innych materiałów może znacznie poprawić wytrzymałość powierzchni, odporność na zużycie i odporność na korozję. Nanotlenek glinu ma doskonałą izolację elektryczną, trwałość chemiczną, odporność na ciepło, dużą odporność na promieniowanie, wysoką stałą dielektryczną oraz płaską i jednolitą powierzchnię. Może być stosowany jako materiał podłoża dla materiałów półprzewodnikowych i wielkogabarytowych układów scalonych i jest szeroko stosowany w mikroelektronice, elektronice i przemyśle informacyjnym.